多孔質セラミックスの製造プロセス
多孔質セラミックスは、原料の選定から成形、焼結、仕上げ加工に至るまで、各工程で精密に制御されることで、優れた性能と均一な微細構造を実現します。孔径や構造、純度を高精度に管理することで、半導体やハイテク産業の厳しい要求に応えます。成形・焼結・仕上げなどの技術によって、強度・均一性・ガス透過性を最適化し、原料から完成品に至るまでの一貫した製造プロセスが、現代の多孔質セラミックスの品質を決定づけています。
半導体エッチング用セラミックフォーカスリング材料
最適なセラミック焦点リング材料の選び方について解説します。アルミナ（酸化アルミニウム）、窒化ケイ素、その他のセラミック材料が、半導体のプラズマエッチングプロセスにおいて焦点リングとして理想的である理由や、それぞれの特性・利点について詳しく学びましょう。
ウェハチャックとは？ なぜそれほど重要なのか
ウェハチャック（Wafer Chuck）は、ウェハ固定用ステージとも呼ばれ、半導体製造装置においてウェハを正確に保持・固定する重要な部品です。ウェハは、フォトリソグラフィ、エッチング、薄膜成膜、化学機械研磨（CMP）など、すべての加工工程で高い安定性が求められます。
会社登記住所変更のお知らせ
ジャパンファインマテリアル株式会社は、登記住所を東京都千代田区内神田へ移転しました。サービス内容、電話番号、メールは一切変更ありません。ファインマテリアル・精密材料の専門サプライヤーとして、これまで通り迅速なサービスを提供します。
セラミックシールドリング：装置保護とウェーハ歩留まり向上
半導体製造におけるプラズマエッチング、化学気相成長（CVD）、物理気相成長（PVD）などの重要プロセスでは、チャンバー内部の構成部品が長時間にわたり高エネルギーイオンやラジカルの衝撃、さらには腐食性ガス環境にさらされます。
エッチングおよび成膜プロセスにおけるセラミックエッジリング
セラミック・エッジリング（Ceramic Edge Ring）は、半導体の薄膜成膜装置やエッチング装置のプロセスチャンバー内に設置され、ウェーハ外周部に密着して配置される環状の機能部品です。主にウェーハのエッチングプロセスにおける均一性を最適化するために用いられます。
セラミック絶縁リングは半導体装置の信頼性向上をどのように確保するのか
半導体製造は、現代の工業システムにおいて、特に複雑性と高精度が求められる分野のひとつである。微細化プロセスが5nm、3nm、さらには2nmノードへと進展する中で、ウェーハ加工装置は高電圧・高周波・高エネルギーのプラズマ環境下において、長期間にわたり安定した稼働が要求される。
半導体製造向け高精度ウェーハ搬送アーム
ウェーハ搬送アームは、半導体製造装置で用いられる高精度自動搬送装置であり、各種プロセス工程間でウェーハを安定かつ正確に移載し、表面をキズや汚染から保護する役割を果たします。
導電性セラミックアームとは？主な特性の解説
導電性セラミックアームは、ウェーハ搬送アーム、エンドエフェクター、セラミック搬送アーム、セラミックロボットアームなどとも呼ばれます。高性能な導電性セラミックスを骨格とした精密搬送用アームで、半導体製造におけるウェーハの搬送・移送専用に設計された部品です。
