スパッタリングターゲット

スパッタリングターゲット
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スパッタリングターゲット
  •  製品の説明

    白金スパッタリングターゲットは、高精度な薄膜成膜に使用される貴金属ターゲット材であり、過酷な環境下や精密な化学条件下で使用される電子部品に適しています。 白金は高い融点、優れた化学的安定性、耐食性を有しており、センサー電極、半導体メモリ層、光学薄膜などの形成に使用されています。 JFMでは、白金スパッタリングターゲットを取り扱っており、お客様の成膜品質、プロセス安定性、長期使用信頼性に対する要求に応じた材料選定をサポートいたします。

 主な特長

白金スパッタリングターゲットは、高信頼性電子メタライゼーションおよび精密薄膜用途に適しており、以下の特長を備えています

  • 高い材料純度
  • 優れた化学的安定性と耐食性
  • 優れた生体適合性
  • 用途に応じた光学特性に対応

 適用分野

白金スパッタリングターゲットは、主に以下の薄膜成膜および電子メタライゼーション用途に使用されます

  • 半導体分野:半導体薄膜成膜、トランジスタ、コンデンサなどのデバイス構造および機能層形成
  • 光学・太陽電池分野:光学薄膜、太陽電池デバイス向け薄膜層の形成
  • 医療・バイオメディカル用途:医療機器の表面処理膜、保護膜、生体適合性が求められる薄膜形成

 製品仕様

項目 供給能力・技術特長
材料系 高純度白金スパッタリングターゲット
形状 円形ターゲット、矩形ターゲット、その他プロセス要件に応じた異形ターゲットに対応
成膜特性 安定したスパッタリング特性を有し、良好な段差被覆性に対応
適用用途 半導体メタライゼーション、光学薄膜、医療機器向け保護膜、精密センサー電極形成
対応プロセス マグネトロンスパッタリング、DCスパッタリング、各種真空薄膜成膜プロセス
寸法対応 各種PVD装置のターゲット取付仕様およびプロセス要件に応じた寸法対応が可能

* 製品の詳細情報およびアプリケーションサポートについては、 弊社までお問い合わせください

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