金シリコン蒸着材料は、物理気相成膜、PVDプロセスに適した高純度合金材料です。 熱蒸着または電子ビーム蒸着により、シリコン基板やチップ上に組成が均一なAuSi薄膜を形成することができます。 AuSi薄膜は、金シリコン合金特有の共晶特性により、低温かつフラックスレスで安定した共晶ダイボンディングを実現します。 また、シリコンとの良好な適合性を有しており、パワーデバイス、MEMS、高信頼性パッケージ分野で幅広く使用されています。 JFMでは、高純度金シリコン蒸着材料を取り扱っており、精密成膜およびボンディング工程に求められる安定した材料特性に対応します。
金シリコン合金は、電子パッケージおよび精密接合用途に適しており、以下の特長を備えています
金シリコン蒸着材料は、主に以下の薄膜成膜およびデバイス製造用途に使用されます
| 項目 | 供給能力・技術特長 |
| 材料系 | 金シリコン共晶合金系 |
| 形状 | 粒状、塊状、切断線材など、各種蒸着源に対応 |
| 対応プロセス | 共晶接合/リフロー実装、熱蒸着、電子ビーム蒸着 |
| 適用用途 | シリコンデバイスのチップ実装、精密封止、薄膜成膜 |
| カスタム対応 | ご要望に応じて、各種サイズ・形状のカスタム製品に対応可能 |
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